當(dāng)整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在夜以繼日地提升微芯片的算力，激光技術(shù)的突破性進(jìn)展注定將在其中扮演關(guān)鍵角色。高效生產(chǎn)是半導(dǎo)體行業(yè)成功的關(guān)鍵，EUV 光刻機的可用性超過了99%，而 EUV 光刻技術(shù)的核心之一正是激光脈沖。通快是目前全球唯一一家能供應(yīng) EUV 光刻設(shè)備激光光源的廠商。

被時代遺棄的產(chǎn)物？

半導(dǎo)體光刻機的核心是通快激光放大器

所有人都以為二氧化碳激光器已日薄西山。這種 1990 年代金屬加工界的“老將”開始顯得有些笨重——尤其是因為這種激光器的光束不適合通過激光光纖傳輸。進(jìn)入 21 世紀(jì)初，金屬加工商紛紛轉(zhuǎn)向更靈活的光纖與碟片激光器。二氧化碳激光只被留在極端嚴(yán)苛和臟亂的工作環(huán)境。

激光技術(shù)首次為半導(dǎo)體行業(yè)的生存級難題提供了答案

  EUV 光最初的來源-

二氧化碳激光器中的受激混合氣體發(fā)出的光

2005 年前后，救贖卻來自最意想不到的角落：正是那個追求超潔凈、超高精度的半導(dǎo)體行業(yè)，開始對這臺粗獷的二氧化碳激光器產(chǎn)生濃厚興趣。人們希望它能幫助解決芯片架構(gòu)中的一個長期問題：如何在更小的空間內(nèi)集成更多的計算能力。也就是把微芯片繼續(xù)縮小。該想法是將極紫外輻射（EUV）應(yīng)用在光刻技術(shù)上，以在硅片上制造更精細(xì)的晶體管電路。唯一的問題是如何產(chǎn)生 EUV 光。結(jié)果證明，只有通快提供的高可靠、高功率二氧化碳激光器，才能打出那束“激發(fā)光源”，進(jìn)而生成符合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)質(zhì)量的 EUV 光。 

這遠(yuǎn)非半導(dǎo)體行業(yè)第一次、也不是唯一一次求助于激光技術(shù)。然而，EUV 這個案例的關(guān)鍵在于：激光第一次為芯片制造商的“生存級”難題——“到哪里去找更強的計算力？”——給出了全新的答案。而這也絕不會是激光最后一次發(fā)揮關(guān)鍵作用。

轉(zhuǎn)自：通快

注：文章版權(quán)歸原作者所有，本文內(nèi)容、圖片、視頻來自網(wǎng)絡(luò)，僅供交流學(xué)習(xí)之用，如涉及版權(quán)等問題，請您告知，我們將及時處理。